袁昊，男，博士，讲师，湖北人，1979年生，2004年6月毕业于武汉理工大学资源与环境工程学院。

主要研究领域包括分子筛催化剂的合成及催化、固体废弃物回收及在环境保护等领域的应用。熟悉XRD、IR、椭偏仪等仪器设备的使用。

2004年7月到上海第二工业大学城市建设与环境工程学院工作，主要从事纳米材料的合成与表征等方面的工作。

发表论文20多篇，申请专利四项（授权1项，公开3项）。

近年来发表的主要论文有：

1. 袁昊，李庆华，沙菲，紫外光解法在制备低介电常数氧化硅分子筛薄膜中的应用，物理化学学报，2007，23(8):1219-1223.

2. 袁昊，李庆华，沙菲，超低介电常数介孔氧化硅薄膜的制备及其表征，无机化学学报（南京大学，被SCI检索），2007，23（9）:158-1592.

3. 专利：一种静电像显影用电荷调节剂制备方法. 授权公告日: 2010-04-14，专利号：ZL200710036734.5